International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics

International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics SCIE

國際應用電磁學與力學雜志  國際簡稱:INT J APPL ELECTROM

International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics(國際應用電磁學與力學雜志雜志)是由IOS Press出版社主辦的一本以工程技術(shù)-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC為研究方向,OA非開放(Not Open Access)的國際優(yōu)秀期刊。旨在幫助發(fā)展和壯大工程技術(shù)及相關(guān)學科的各個方面。該期刊接受多種不同類型的文章。本刊出版語言為English,創(chuàng)刊于1995年。自創(chuàng)刊以來,已被SCIE(科學引文索引擴展板)等國內(nèi)外知名檢索系統(tǒng)收錄。該雜志發(fā)表了高質(zhì)量的論文,重點介紹了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC在分析和實踐中的理論、研究和應用。

雜志介紹

  • ISSN:1383-5416

    E-ISSN:1875-8800

    出版商:IOS Press

  • 出版語言:English

    出版地區(qū):NETHERLANDS

    出版周期:Quarterly

  • 是否OA:未開放

    是否預警:否

    創(chuàng)刊時間:1995

  • 年發(fā)文量:136

    影響因子:1.1

    研究類文章占比:95.59%

    Gold OA文章占比:0.85%

    H-index:26

    出版國人文章占比:

    出版撤稿文章占比:

    開源占比:0.00...

    文章自引率:0

《International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics》是一份國際優(yōu)秀期刊,為工程技術(shù)領(lǐng)域的研究人員和從業(yè)者提供科學論壇。該期刊涵蓋了工程技術(shù)及相關(guān)學科的所有方面,包括基礎(chǔ)和應用研究,使讀者能夠獲得來自世界各地的最新、前沿的研究。該期刊歡迎涉及工程技術(shù)領(lǐng)域的原創(chuàng)理論、方法、技術(shù)和重要應用的稿件,并刊載了涉及工程技術(shù)領(lǐng)域的相關(guān)欄目:綜述、論著、述評、論著摘要等。所有投稿都有望達到高標準的科學嚴謹性,并為推進該領(lǐng)域的科研知識傳播做出貢獻。該期刊最新CiteScore值為1.7,最新影響因子為1.1,SJR指數(shù)為0.222,SNIP指數(shù)為0.401。

期刊International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics近年評價數(shù)據(jù)趨勢圖

中科院SCI期刊分區(qū)大類分區(qū)趨勢圖
期刊自引率趨勢圖
期刊CiteScore趨勢圖
期刊影響因子趨勢圖
期刊年發(fā)文量趨勢圖

期刊CiteScore指數(shù)統(tǒng)計(2024年最新版)

CiteScore指標的應用非常廣泛,以期刊的引用次數(shù)為基礎(chǔ)評估期刊的影響力。它可以反映期刊的學術(shù)影響力和學術(shù)水平,是學術(shù)界常用的期刊評價指標之一。

CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
1.7 0.222 0.401
學科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q3 438 / 672

34%

大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q3 549 / 797

31%

大類:Engineering 小類:Mechanics of Materials Q3 276 / 398

30%

大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q3 321 / 434

26%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 212 / 284

25%

CiteScore是由Elsevier公司開發(fā)的一種用于衡量科學期刊影響力的指標,以期刊的引用次數(shù)為基礎(chǔ)評估期刊的影響力。這個指標是由Scopus數(shù)據(jù)庫支持,以四年為一個時段,連續(xù)評估期刊和叢書的引文影響力的。具體來說,CiteScore是計算某期刊連續(xù)三年發(fā)表的論文在第四年度的篇均引用次數(shù)。CiteScore和影響因子(IF)有所不同。例如,在影響因子的計算中,分子是來自所有文章的引用次數(shù),包括編輯述評、讀者來信、更正信息和新聞等非研究性文章,而分母則不包括這些非研究性文章。然而,在CiteScore的計算中,分子和分母都包括這些非研究性文章。因此,如果這些非研究性文章比較多,由于分母較大,相較于影響因子,CiteScore計算出來的分數(shù)可能會偏低。此外,CiteScore的引用數(shù)據(jù)來自Scopus數(shù)據(jù)庫中的22000多個期刊,比影響因子來自Web of Science數(shù)據(jù)庫的11000多個期刊多了一倍。

期刊WOS(JCR)分區(qū)(2023-2024年最新版)

按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 278 / 352

21.2%

學科:MECHANICS SCIE Q4 137 / 170

19.7%

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 152 / 179

15.4%

按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 319 / 354

10.03%

學科:MECHANICS SCIE Q4 152 / 170

10.88%

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 164 / 179

8.66%

WOS(JCR)分區(qū)是由科睿唯安公司提出的一種新的期刊評價指標,分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好,發(fā)文難度也越高。這種分級體系有助于科研人員快速了解各個期刊的影響力和地位。JCR將所有期刊按照各個學科領(lǐng)域進行分類,然后以影響因子為標準平均分為四個等級:Q1、Q2、Q3和Q4區(qū)。這種設計使得科研人員可以更容易地進行跨學科比較。

中科院SCI期刊分區(qū)

中科院SCI期刊分區(qū)是由中國科學院國家科學圖書館制定的。將所有的期刊按照學科進行分類,以影響因子為標準平均分為四個等級。分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好,發(fā)文難度也越高。

2023年12月升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術(shù) 4區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MECHANICS 力學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用
4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

2022年12月升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術(shù) 4區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MECHANICS 力學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用
4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

2021年12月舊的升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術(shù) 4區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MECHANICS 力學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用
4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

2021年12月基礎(chǔ)版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術(shù) 4區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MECHANICS 力學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用
4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

2021年12月升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術(shù) 4區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MECHANICS 力學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用
4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

2020年12月舊的升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術(shù) 4區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MECHANICS 力學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用
4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

投稿提示

International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics(中文譯名國際應用電磁學與力學雜志雜志)是一本專注于物理,工程:電子與電氣領(lǐng)域的國際期刊,致力于為全球ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究者提供一個高質(zhì)量的學術(shù)交流平臺。該期刊ISSN:1383-5416,E-ISSN:1875-8800,出版周期Quarterly。在中科院的大類學科分類中,該期刊屬于工程技術(shù)范疇,而在小類學科中,它主要涵蓋了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC這一領(lǐng)域。編輯部誠摯邀請廣大工程技術(shù)領(lǐng)域的專家學者投稿,內(nèi)容可以涵蓋工程技術(shù)的綜合研究、實踐應用、創(chuàng)新成果等方面。同時,我們也歡迎學者們就相關(guān)主題進行簡短的交流和評論,以促進學術(shù)界的互動與合作。為了保證期刊的質(zhì)量,審稿周期預計為 約3.0個月 。在此期間,編輯部將對所有投稿進行嚴格的同行評審,以確保發(fā)表的文章具有較高的學術(shù)價值和實用性。

值得一提的是,International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics近期并未被列入國際期刊預警名單,這意味著其學術(shù)質(zhì)量和影響力得到了廣泛認可。該期刊為工程技術(shù)領(lǐng)域的學者提供了一個優(yōu)質(zhì)的學術(shù)交流平臺。因此,關(guān)注并投稿至International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics無疑是一個明智的選擇,這將有助于提升您的學術(shù)聲譽和研究成果的傳播。

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期刊發(fā)文分析

期刊引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
期刊引用數(shù)據(jù) 引用次數(shù)
IEEE T MAGN 529
INT J APPL ELECTROM 331
J MAGN MAGN MATER 101
IEEE T IND ELECTRON 94
IEEE T IND APPL 90
NDT&E INT 85
J APPL PHYS 79
SMART MATER STRUCT 70
SENSOR ACTUAT A-PHYS 42
IEEE T ENERGY CONVER 40
期刊被引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
期刊被引用數(shù)據(jù) 引用次數(shù)
INT J APPL ELECTROM 331
IEEE ACCESS 55
IEEE T MAGN 43
SENSORS-BASEL 24
PHYSICA A 23
AIP ADV 20
ENERGIES 18
J MAGN MAGN MATER 18
SMART MATER STRUCT 18
APPL SCI-BASEL 15
文章引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
文章引用數(shù)據(jù) 引用次數(shù)
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