Ieee Transactions On Device And Materials Reliability(IEEE Transactions on Device and Materials Reliability雜志)是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版社主辦的一本以工程技術-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC為研究方向,OA非開放(Not Open Access)的國際優秀期刊。旨在幫助發展和壯大工程技術及相關學科的各個方面。該期刊接受多種不同類型的文章。本刊出版語言為English,創刊于2001年。自創刊以來,已被SCIE(科學引文索引擴展板)等國內外知名檢索系統收錄。該雜志發表了高質量的論文,重點介紹了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC在分析和實踐中的理論、研究和應用。
ISSN:1530-4388
E-ISSN:1558-2574
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版語言:English
出版地區:UNITED STATES
出版周期:Quarterly
是否OA:未開放
是否預警:否
創刊時間:2001
年發文量:72
影響因子:2.5
研究類文章占比:97.22%
Gold OA文章占比:24.52%
H-index:63
出版國人文章占比:0.14
出版撤稿文章占比:
開源占比:0.05...
文章自引率:0.05
《Ieee Transactions On Device And Materials Reliability》是一份國際優秀期刊,為工程技術領域的研究人員和從業者提供科學論壇。該期刊涵蓋了工程技術及相關學科的所有方面,包括基礎和應用研究,使讀者能夠獲得來自世界各地的最新、前沿的研究。該期刊歡迎涉及工程技術領域的原創理論、方法、技術和重要應用的稿件,并刊載了涉及工程技術領域的相關欄目:綜述、論著、述評、論著摘要等。所有投稿都有望達到高標準的科學嚴謹性,并為推進該領域的科研知識傳播做出貢獻。該期刊最新CiteScore值為4.8,最新影響因子為2.5,SJR指數為0.436,SNIP指數為1.148。
CiteScore指標的應用非常廣泛,以期刊的引用次數為基礎評估期刊的影響力。它可以反映期刊的學術影響力和學術水平,是學術界常用的期刊評價指標之一。
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||||||||||
4.8 | 0.436 | 1.148 |
|
CiteScore是由Elsevier公司開發的一種用于衡量科學期刊影響力的指標,以期刊的引用次數為基礎評估期刊的影響力。這個指標是由Scopus數據庫支持,以四年為一個時段,連續評估期刊和叢書的引文影響力的。具體來說,CiteScore是計算某期刊連續三年發表的論文在第四年度的篇均引用次數。CiteScore和影響因子(IF)有所不同。例如,在影響因子的計算中,分子是來自所有文章的引用次數,包括編輯述評、讀者來信、更正信息和新聞等非研究性文章,而分母則不包括這些非研究性文章。然而,在CiteScore的計算中,分子和分母都包括這些非研究性文章。因此,如果這些非研究性文章比較多,由于分母較大,相較于影響因子,CiteScore計算出來的分數可能會偏低。此外,CiteScore的引用數據來自Scopus數據庫中的22000多個期刊,比影響因子來自Web of Science數據庫的11000多個期刊多了一倍。
按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 165 / 352 |
53.3% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 87 / 179 |
51.7% |
按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 186 / 354 |
47.6% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 99 / 179 |
44.97% |
WOS(JCR)分區是由科睿唯安公司提出的一種新的期刊評價指標,分區越靠前一般代表期刊質量越好,發文難度也越高。這種分級體系有助于科研人員快速了解各個期刊的影響力和地位。JCR將所有期刊按照各個學科領域進行分類,然后以影響因子為標準平均分為四個等級:Q1、Q2、Q3和Q4區。這種設計使得科研人員可以更容易地進行跨學科比較。
中科院SCI期刊分區是由中國科學院國家科學圖書館制定的。將所有的期刊按照學科進行分類,以影響因子為標準平均分為四個等級。分區越靠前一般代表期刊質量越好,發文難度也越高。
2023年12月升級版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
否 | 否 | 工程技術 3區 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理:應用
3區
3區
|
2022年12月升級版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
否 | 否 | 工程技術 3區 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理:應用
3區
3區
|
2021年12月舊的升級版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
否 | 否 | 工程技術 3區 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理:應用
3區
3區
|
2021年12月基礎版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
否 | 否 | 工程技術 4區 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理:應用
4區
4區
|
2021年12月升級版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
否 | 否 | 工程技術 3區 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理:應用
3區
3區
|
2020年12月舊的升級版
Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
否 | 否 | 工程技術 3區 |
PHYSICS, APPLIED
物理:應用
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣
3區
4區
|
Ieee Transactions On Device And Materials Reliability(中文譯名IEEE Transactions on Device and Materials Reliability雜志)是一本專注于工程技術,工程:電子與電氣領域的國際期刊,致力于為全球ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領域的研究者提供一個高質量的學術交流平臺。該期刊ISSN:1530-4388,E-ISSN:1558-2574,出版周期Quarterly。在中科院的大類學科分類中,該期刊屬于工程技術范疇,而在小類學科中,它主要涵蓋了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC這一領域。編輯部誠摯邀請廣大工程技術領域的專家學者投稿,內容可以涵蓋工程技術的綜合研究、實踐應用、創新成果等方面。同時,我們也歡迎學者們就相關主題進行簡短的交流和評論,以促進學術界的互動與合作。為了保證期刊的質量,審稿周期預計為 較慢,6-12周 。在此期間,編輯部將對所有投稿進行嚴格的同行評審,以確保發表的文章具有較高的學術價值和實用性。
值得一提的是,Ieee Transactions On Device And Materials Reliability近期并未被列入國際期刊預警名單,這意味著其學術質量和影響力得到了廣泛認可。該期刊為工程技術領域的學者提供了一個優質的學術交流平臺。因此,關注并投稿至Ieee Transactions On Device And Materials Reliability無疑是一個明智的選擇,這將有助于提升您的學術聲譽和研究成果的傳播。
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投稿咨詢機構 | 發文量 |
INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY SYSTEM (IIT... | 23 |
IMEC | 15 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQ... | 14 |
STMICROELECTRONICS | 10 |
TECHNISCHE UNIVERSITAT WIEN | 9 |
NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY | 8 |
NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY | 8 |
COMMUNAUTE UNIVERSITE GRENOBLE ALPES | 7 |
GLOBALFOUNDRIES | 7 |
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 6 |
國家 / 地區 | 發文量 |
USA | 52 |
CHINA MAINLAND | 51 |
India | 50 |
Taiwan | 35 |
France | 20 |
Italy | 18 |
Belgium | 15 |
Austria | 14 |
Japan | 13 |
GERMANY (FED REP GER) | 12 |
期刊引用數據 | 引用次數 |
IEEE T ELECTRON DEV | 167 |
IEEE T NUCL SCI | 116 |
MICROELECTRON RELIAB | 100 |
IEEE T DEVICE MAT RE | 93 |
IEEE ELECTR DEVICE L | 69 |
APPL PHYS LETT | 59 |
J APPL PHYS | 44 |
IEEE T COMP PACK MAN | 24 |
IEEE J SOLID-ST CIRC | 23 |
IEEE T POWER ELECTR | 23 |
期刊被引用數據 | 引用次數 |
IEEE T ELECTRON DEV | 127 |
IEEE T DEVICE MAT RE | 93 |
MICROELECTRON RELIAB | 88 |
IEEE ACCESS | 47 |
IEEE T NUCL SCI | 37 |
IEEE ELECTR DEVICE L | 36 |
IEICE ELECTRON EXPR | 35 |
IEEE T POWER ELECTR | 31 |
J MATER SCI-MATER EL | 31 |
ELECTRONICS-SWITZ | 30 |
文章引用數據 | 引用次數 |
A First-Principles Study of the SF6 Decomp... | 23 |
Understanding BTI in SiC MOSFETs and Its I... | 9 |
Comparative Thermal and Structural Charact... | 9 |
Output-Power Enhancement for Hot Spotted P... | 8 |
Rapid Solder Interconnect Fatigue Life Tes... | 7 |
Study of Long Term Drift of Aluminum Oxide... | 7 |
Impacts of Process and Temperature Variati... | 6 |
Comparative Study of Reliability of Ferroe... | 6 |
A Compact and Self-Isolated Dual-Direction... | 6 |
A Review on Hot-Carrier-Induced Degradatio... | 6 |
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